CMP(Chemical Mechanical Polishing)スラリーは先端の高密度実装半導体素子に不可欠の薬液である。研磨剤を含むスラリーを大量の水と共に使用するため、再利用が難しく廃棄されるのみでした。
当社では、大量の水で希釈されたスラリー廃液を濃縮して回収し、化学的な調整を加えて新品スラリーと同等の性質に戻して再利用を可能とする、世界で唯一の事業を行っています。
顧客は国内半導体工場様であり、厳しい品質管理要求に答えながら事業を行っております。
スラリー調整装置(移動式)
小型実験機
上図は再生CMPスラリービジネスのフロー図。顧客CMP工程から排出するスラリーは水で高度に希釈されており、顧客工場内設置の濃縮機で所定濃度まで濃縮を行います。この濃縮は、市場で販売されているCMPスラリーと同濃度まで行うことが可能です。上図では、濃縮後のスラリーを当社工場に移送して化学組成を調整した後に、再生スラリーとして顧客工場に戻す場合ですが、調整機能も具備した濃縮機とすることでスラリーを移送することなくリサイクルするスキームも可能です。
最近の開発事例の紹介：
濃縮機稼働中に生成する透過水は、可溶性の化学物質と微量の砥粒成分を含んでいます。この透過水を再度濃縮して、砥粒高濃度廃液と透過水に分別し、この透過水をイオン交換樹脂やRO膜に通して工場内での再利用を可能とする設備を開発。この設備によって、CMP工程で用いる水の全てを、高い収率で再利用することが可能となります。
－CMPスラリーのリサイクルをご検討の方、
－CMPスラリーを含む廃水の処理にお困りの方、
－工場内の水利用効率改善をご検討の方、
是非一度、当社にお声がけください。